详细介绍
品牌 | 中图仪器 | 产地 | 国产 |
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加工定制 | 否 |
NS200探针式台阶仪是一种接触式表面形貌测量仪器,可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。台阶仪对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求,样品适应面广,数据复现性高、测量稳定、便捷、高效,是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。
NS200台阶仪特性:
1.出色的重复性和再现性,满足被测件测量精度要求
线性可变差动电容传感器(LVDC),具有亚埃级分辨率,13um量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差,使得产品能够扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。
2.超微力恒力传感器:(1-50)mg可调
测力恒定可调,以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的精准接触式测量。
3.超平扫描平台
系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,提高扫描精度,真实反映工件微小形貌。
4.顶视光学导航系统,5MP超高分辨率彩色相机
5.全自动XY载物台, Z轴自动升降、360°全自动θ转台
6.强大的数据采集和分析系统
台阶仪软件包含多个模块,为对不同被测件的高度测量及分析评价提供充分支持。
1.参数测量功能
1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;
2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;
3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。
2.数采与分析系统
1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;
2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。
3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。
3.光学导航功能
配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。
4.样品空间姿态调节功能
配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。
台阶仪是一种常用的膜厚测量仪器,它是利用光学干涉原理,通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度,具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度,包括金属、陶瓷、塑料等。
NS200探针式台阶仪采用LVDC电容传感器,具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点使得其在ITO导电薄膜厚度的测量上具有很强的优势。
针对测量ITO导电薄膜的应用场景,NS200台阶仪提供如下便捷功能:
1)结合了360°旋转台的全电动载物台,能够快速定位到测量标志位;
2)对于批量样件,提供自定义多区域测量功能,实现一键多点位测量;
3)提供SPC统计分析功能,直观分析测量数值变化趋势;
NS200台阶仪其它典型应用:
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